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金融界2023年11月29日消息，据国家知识产权局公告，武汉锐科光纤激光技术股份有限公司取得一项名为“一种抗反射材料制造方法及装置“，授权公告号CN113732512B，申请日期为2021年9月。

专利摘要显示，本发明提供一种抗反射材料制造方法及装置。该制造方法包括提供一表面粗糙度低于0.1的待处理材料，然后对该材料表面进行两阶段的激光加工处理，在第一阶段形成周期性微米结构，随后在第二阶段形成周期性微纳结构。通过这种工艺，可以对宽光谱波段的光线进行有效吸收，并降低材料表面的反射率。这样，材料的抗反射性得到了增强，且制造工艺简单，不会对环境造成污染。

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